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設備介紹：

  區熔爐利用定向凝固原理，進行材料提純和晶體生長超高純原材料制備及熔融計量的理想設備。可選用電阻絲、硅碳棒、硅鉬棒或中頻感應加熱。應用領域：半導體材料、金屬材料、陶瓷材料、光學材料。

主要功能與特點：

  1.區熔爐結構可分為水平區熔或立式區熔,單管或多管局部加熱；

  2.高精度移動滑軌、高質量步進電機使得傳動系統更加精確和穩定；

  3.溫場架采用優質耐高溫材料通過緩慢移動加熱裝置，熔區沿材料長度方向移動，逐漸帶離初始熔點；

  4.獨立控制柜，液晶觸摸屏顯示，以實現數據的存儲、輸出，可通過U盤復制到計算機上，曲線實時顯示讓程序設置更快捷,設備運行狀態更直觀，設定數據和操作都是圖文界面，操作方便；針對數據的存儲、輸出，可以預設多條加熱曲線，可通過USB接口復制數據到計算機上長期保存。